Kõrglahutusega reljeefne silikoon peente logomustrite jaoks

Toote ülevaade

XG-360KY reljeefsilikooni saab kasutada tekstiili logode kujundamisel, mis nõuavad peeneid jooni, väikest kirja, kitsaid vahesid ja üksikasjalikku pinnatekstuuri. Peenreljeefrakendustes sõltub lõplik mustri kvaliteet silikooni reoloogia, vormi täpsuse, kunstiteose struktuuri, materjali jaotuse ja töötlemistingimuste kombineeritud kontrollist.

Kui need tegurid on õigesti sobitatud, sobib XG-360KY selgete kontuuride ja nähtava tekstuuriga üksikasjalike logode ja dekoratiivsete mustrite loomiseks. See leht keskendub peenele-detailide kujundamisele, mitte üldisele 3D-reljeeftrükkimisele või tõstetud-ja süvistatud struktuurile.

Peente logomustrite peamised eelised

1. Kontrollitud kuju peente joonte ja väikeste kirjade jaoks

XG-360KY on suure viskoossusega pasta konsistentsiga. Osa A tüüpiline viskoossus on 900 000 ± 100 000 mPa·s. See annab töötlemise ajal piisava kehaehituse ja sobib rakendustele, kus kitsad jooned, kompaktne kiri ja kontrollitud mustri kuju on olulised.

2. Logo serva definitsiooni kustutamine

Peened logod sisaldavad sageli teravaid nurki, väikseid lünki ja tihedalt asetsevaid graafilisi elemente. Õige vormikujundus ja kontrollitud silikoonjaotus aitavad säilitada tähtede, numbrite ja kaubamärgimärkide väliskontuuri, parandades külgnevate detailide visuaalset eraldamist.

3. Peene tekstuuri reprodutseerimine

Reljeefvormid võivad sisaldada kitsaid sooni, korduvaid jooni, geomeetrilisi tekstuure ja muid väikeseid pinnastruktuure. Kui vormi täpsus ja töötlemistingimused on õigesti sobitatud, võivad need detailid saada viimistletud silikoonpinna osaks ja luua rafineerituma kombatava välimuse.

4. Sobib keerukate logostruktuuride jaoks

Üksikasjalikud kaubamärgimärgid võivad ühes kujunduses ühendada väikese teksti, õhukesed jooned, kitsad vahed ja mitu tekstuuritsooni. Need mustrid nõuavad täpsemat juhtimist kui lihtsad{1}}suurte alade logod. XG-360KY saab sellisteks rakendusteks positsioneerida, kui vorm ja protsess on sihtprojekti jaoks optimeeritud.

5. Paindlikkus õrnade reljeefsete detailide jaoks

Peened reljeefstruktuurid vajavad ka pärast kõvenemist piisavat paindlikkust. XG-360KY Shore A kõvadus on 38 ± 2 ja purunemispikenemine vähemalt 450%, mis aitab kõvastunud silikoonil säilitada paindlikkust, säilitades samal ajal üksikasjalikud reljeefsed struktuurid.

Peenreljeefi kvaliteeti mõjutavad tegurid

• Vormi täpsus - peendetailid nõuavad täpseid õõnsusi, servi ja tekstuurigeomeetriat.

• Kunstikujundus - äärmiselt kitsad vahed, väga õhukesed jooned või liiga tihedad detailid võivad vajada kujundust.

• Silikooni kogus - liiga palju või liiga vähe materjali võib vähendada definitsiooni või mittetäielikku täitmist.

• Reljeeftrükkimise tingimused - temperatuur, rõhk ja vormimisaeg peavad vastama vormile ja aluspinnale.

• Kanga pinna - kudumine, pinna tasasus ja kanga liikumine võivad mõjutada väikeste detailide nähtavust.

Tüüpilised tehnilised andmed

Ülaltoodud väärtused on tüüpilised andmed XG-360KY tehniliselt andmelehelt ja võivad erineda olenevalt katsetingimustest või toote kohandustest.

Soovitatav protsess peene logo reljeeftrükkimiseks

1. samm: vaadake üle logo kujundus

Kontrollige, kas väikesed tähed, kitsad vahed ja peened jooned sobivad hallitusseente valmistamiseks. Vajadusel lihtsustage äärmiselt tihedaid detaile, et parandada protsessi stabiilsust.

2. samm: valmistage ette ülitäpne-vorm

Kasutage puhaste servadega ja piisava täpsusega vormi sihtjoone laiuse, soone kuju ja pinna tekstuuri jaoks. Hallituse kvaliteet mõjutab otseselt detailide taasesitamist.

3. samm: segage silikoonsüsteem

Kasutage XG-360KY koos ühilduva XG-866B seeria plaatina katalüsaatoriga. Tehnilisel andmelehel on soovitatav A:B segamissuhe 100:2. Lisage sobivat silikoonpigmenti ainult vastavalt vajadusele ja segage hoolikalt.

4. samm: juhtmaterjali jaotamine

Kandke peale sobiv kogus silikooni, et väikesed õõnsused ja kitsad tekstuurialad saaksid täidetud ilma liigse ülevooluta. Vajalik kogus sõltub vormi sügavusest, logo suurusest ja kanga struktuurist.

5. samm: reljeef ja vormi

Moodusta kujundus sobiva temperatuuri, rõhu ja aja tingimustes. Need parameetrid tuleks määrata tootmistestimise teel, kuna praegune TDS ei paku täpsete-detailide logode jaoks fikseeritud reljeefväärtusi.

6. samm: kontrollige täpseid üksikasju

Pärast demonteerimist kontrollige enne masstootmist väikeseid tähti, servade teravust, kitsaid sooni, tekstuuri järjepidevust ja üldist mustri selgust.

Tüüpilised peened logokujundused

• Väikesed{0}}tähelised logod

• Peened{0}}joonmustrid

• Kitsad sooned ja lineaarsed tekstuurid

• Üksikasjalikud kaubamärgimärgid

• Kompaktsed tähed ja numbrid

• Geomeetrilised mikro{0}}tekstuurid

• Dekoratiivsed korduvad mustrid

Rakendused

XG-360KY tehnilisel andmelehel on tüüpiliste aluspindadena loetletud puuvill, puuvillasega-kangad ja jalatsi-pealsed materjalid. Peen-detailsete reljeefrakenduste hulka võivad kuuluda rõivabrändi märgid, väikesed kingapealsete logod, kompaktsed kirjad, tekstureeritud dekoratiivgraafika ja üksikasjalikud 3D-identiteedielemendid.

Miks valida peene reljeeftrükkimiseks XG-360KY?

Peene reljeeftrükkimise põhiväärtus on pigem detailide juhtimine kui lihtsalt mustri kõrguse suurendamine. XG-360KY ühendab endas kõrge viskoossusega pasta konsistentsi hea elastsuse ja mehaaniliste omadustega. Täpse vormi ja stabiilse vormimisprotsessiga kasutamisel sobib see rakendustele, kus on vaja väikseid jooni, puhtaid servi ja üksikasjalikke logo tekstuure.

Lühike tootekirjeldus

XG-360KY kõrglahutusega reljeefne silikoon on loodud väikeste kirjade, kitsaste joonte ja üksikasjalike pinnatekstuuridega peente tekstiillogomustrite jaoks. Selle kõrge viskoossusega pasta konsistents koos hea elastsuse ja mehaanilise tugevusega muudab selle sobivaks detailsete reljeefsete rakenduste jaoks, kui hallituse täpsus ja töötlemistingimused on korralikult kontrollitud.

Kuum tags: kõrglahutusega surutrükiga silikoon peente logomustrite jaoks, Hiina, tarnijad, tootjad, tehas, hulgimüük, hind, hinnakiri, tasuta näidis